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邢臺(tái)市太和生物化學(xué)技術(shù)有限公司

 
證券之星消息,根據(jù)天眼查APP-財(cái)產(chǎn)線索數(shù)據(jù)整理,山東魯抗醫(yī)藥股份有限公司1月7日發(fā)布《生物技術(shù)轉(zhuǎn)化平臺(tái)技術(shù)中心項(xiàng)目全自動(dòng)培養(yǎng)基制備分裝系統(tǒng)采購競爭性磋商成交公示》,詳情如下:標(biāo)題:生物技術(shù)轉(zhuǎn)化平臺(tái)技術(shù)中心項(xiàng)目全自動(dòng)培養(yǎng)基制備分裝系統(tǒng)采購競爭性磋商成交公示通過天眼查大數(shù)據(jù)分析,山東魯抗醫(yī)藥股份有限公司共對(duì)外投資了17家企業(yè),參與招投標(biāo)項(xiàng)目10820次;財(cái)產(chǎn)線索方面有商標(biāo)信息241條,專利信息256條;此外企業(yè)還擁有行政許可312個(gè)。數(shù)據(jù)來源:天眼查APP
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國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示,齊魯制藥有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“拉法姆林中間體及其制備方法和用途”的專利,公開號(hào)CN121318798A,申請(qǐng)日期為2024年7月。專利摘要顯示,本發(fā)明屬于藥物化學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,涉及拉法姆林中間體、及其制備方法和用途。天眼查資料顯示,齊魯制藥有限公司,成立于1992年,位于濟(jì)南市,是一家以從事醫(yī)藥制造業(yè)為主的企業(yè)。企業(yè)注冊資本60000萬人民幣。通過天眼查大數(shù)據(jù)分析,齊魯制藥有限公司共對(duì)外投資了22家企業(yè),參與招投標(biāo)項(xiàng)目5000次,財(cái)產(chǎn)線索方面有商標(biāo)信息695條,專利信息391條,此外企業(yè)還擁有行政許可847個(gè)。聲明:市場有風(fēng)險(xiǎn),投資需謹(jǐn)慎。本文為AI基于第三方數(shù)據(jù)生成,僅供參考,不構(gòu)成個(gè)人投資建議。
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國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示,中海石油化學(xué)股份有限公司;中海石油華鶴煤化有限公司;黑龍江省科學(xué)院高技術(shù)研究院申請(qǐng)一項(xiàng)名為“減少水煤漿添加劑的工藝方法及水煤漿制備裝置”的專利,公開號(hào)CN121343637A,申請(qǐng)日期為2025年9月。專利摘要顯示,本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N減少水煤漿添加劑的工藝方法及水煤漿制備裝置,涉及水煤漿制備工藝技術(shù)領(lǐng)域。其中,減少水煤漿添加劑的工藝方法包括將煤粉、水和添加劑混合制成第一水煤漿,對(duì)所述第一水煤漿研磨和篩分后暫存,得到暫存水煤漿;當(dāng)所述暫存水煤漿積累到預(yù)定量時(shí),對(duì)所述暫存水煤漿空化處理,得到空化水煤漿;空化過程中,將部分的所述空化水煤漿回流處理,得到回流水煤漿,將第二水煤漿和所述回流水煤漿混合,得到混合流體,對(duì)所述混合流體研磨、篩分和暫存,得到所述暫存水煤漿;收集所述空化水煤
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溶菌酶可應(yīng)用于醫(yī)療衛(wèi)生以及食品加工領(lǐng)域 離子交換層析法為其主流制備方法
溶菌酶,又稱N-乙酰胞壁質(zhì)聚糖水解酶、胞壁質(zhì)酶,是一種堿性水解酶。溶菌酶外觀呈白色或微白色凍干粉末,無特殊氣味,易溶于水,不溶于乙醚和丙酮。溶菌酶具備分解細(xì)菌細(xì)胞壁中肽聚糖的特殊作用,在醫(yī)療衛(wèi)生以及食品加工領(lǐng)域應(yīng)用較多。溶菌酶制備方法包括離子交換層析法、結(jié)晶法、親和層析法等。離子交換層析法具備分離效果好、生產(chǎn)效率高等優(yōu)勢,適合進(jìn)行連續(xù)化生產(chǎn),為溶菌酶主流制備方法;結(jié)晶法指將中性鹽加入蛋清中,再加入氫氧化鈉溶液和少許溶菌酶晶體,經(jīng)結(jié)晶析出制得成品,存在生產(chǎn)流程復(fù)雜、運(yùn)行成本高等問題,目前尚未實(shí)現(xiàn)規(guī)?;瘧?yīng)用。按照來源不同,溶菌酶可分為植物源溶菌酶、動(dòng)物源溶菌酶以及微生物源溶菌酶三種類型。植物源溶菌酶主要從大麥、木瓜和無花果等植物中提取制得;動(dòng)物源溶菌酶可細(xì)分為人和哺乳動(dòng)物溶菌酶以及雞蛋清溶菌酶,
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國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示,湖南頂立科技股份有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種分段式化學(xué)氣相沉積法制備高致密TaC涂層的方法”的專利,公開號(hào)CN121428657A,申請(qǐng)日期為2025年10月。專利摘要顯示,本發(fā)明公開了一種分段式化學(xué)氣相沉積法制備高致密TaC涂層的方法,所述方法包括以下步驟:S100、選用基體材料并進(jìn)行預(yù)處理,去除基體材料表面雜質(zhì);S200、在第一預(yù)設(shè)溫度和第一預(yù)設(shè)壓力下,通過化學(xué)氣相沉積法在基體材料上沉積第一預(yù)設(shè)厚度且呈柱狀晶結(jié)構(gòu)的粗顆粒TaC層,構(gòu)建厚度骨架;S300、降溫降壓至第二預(yù)設(shè)溫度和第二預(yù)設(shè)壓力,在基體材料上沉積細(xì)小晶粒以填充粗顆粒TaC層中的空隙和裂紋,進(jìn)而得到高致密TaC涂層。本發(fā)明通過分段CVD工藝,先高溫高壓快速積厚形成柱狀晶結(jié)構(gòu)的TaC層,為后續(xù)低溫低壓致密化沉
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